Воздействие температуры на рост двух видов Pseudo-nitzschiah. Peragallo (bacillariophyta) в лабораторных культурах, изолированных из Японского моря

Аннотация

Диатомеи рода Pseudo-nitzschiaH. Peragallo, 1900, продуцирующие нейротоксичную домоевую кислоту, нередко интенсивно размножаются в дальневосточных морях России, что вызывает цветения воды. Температура известна как важный фактор, влияющий на развитие диатомей, однако его воздействие на рост этой группы микроводорослей из Японского моря иccледовано недостаточно. Изучены особенности роста в лабораторной культуре двух видов диатомей Pseudo-nitzschia fraudulenta(Сleve) Hasle, 1993и Pseudo-nitzschia hasleanaLundholm, 2012 в диапазоне температуры от 5 до 20 °С. Методом прямого подсчета в камере Нажотта оценивали плотность клеток, темпы роста и время генерации. Установлено, что максимальная средняя плотность клеток P. fraudulentaдостигала 2,2 × 10⁵ кл·л^-1на 16 сутки опыта при 18 °С. Для этого вида при 18 °С темпы роста (0,11-0,16 дел·cут^-1) оставались относительно высокими, а время генерации(4,4-6,7 сут) относительно низким в течение большей части опыта. Максимальная средняя плотность клеток P. hasleana(5× 10⁵ кл·л^-1) отмечена на 16 сутки опыта при 17 °С. Для этого вида высокие темпы роста (0,2-0,92 дел·cут^-1) и низкое время генерации (0,8-3,6 сут) зарегистрированы при 17 °С со 2-х по 10 сутки опыта.Средняя плотность клеток P. fraudulentaпри температуре 18 °С оказалась статистически значимо выше, чем при других изученных значениях температуры (тест Тьюки, p < 0,05) в течение всего эксперимента. Средняя плотность клеток P. hasleanaпри температуре 17 °С оказалась статистически значимо выше (тест Тьюки, p < 0,05) соответствующих данных при других значениях температуры на 8-12 сутки опыта.Установлено, что при выращивании клонов P. fraudulenta и P. hasleana при температуре 10, 16 и 18 °С и 14, 17 и 20 °С соответственно клетки оставались в жизнеспособном состоянии и продолжали делиться. При понижении температуры культивирования P. fraudulenta и P. hasleana до 5 °С и 7 °С соответственно, деление резко замедлялось и плотность клеток была статистически значимо ниже, чем при более высокой температуре (тест Тьюки, p < 0,05). Установлено, что диапазон толерантной температуры при культивировании P. fraudulenta и P. hasleana варьировал от 10 до 18 °С и от 14 до 17 °С соответственно.  Выявленные нижние границы толерантной температуры при культивировании двух видов (10 и 14 °С) соответствовали температурным условиям, при которых наблюдали цветения P. fraudulenta и P. hasleana в природной среде: 6-16 и 10-16 °Ссоответственно. Показаны широкие адаптивные возможности изученных видов по отношению к температуре.

Ключевые слова: Pseudo-nitzschia fraudulenta, Pseudo-nitzschia hasleana, лабораторноекультивирование, температура, Японское море